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CMP拋(pao)光液

CMP拋光液

  • 分類：公司新聞
  • 作(zuo)者(zhe)：
  • 來源(yuan)：
  • 發布時間：2020-06-03
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【概要描述】CMP拋(pao)光液是以高(gao)純硅粉為原料，經特殊(shu)工藝(yi)生產的(de)一種高(gao)純度低金(jin)屬離子型拋(pao)光產品(pin)，廣泛(fan)用于多種材料納米級的(de)高(gao)平(ping)坦化(hua)拋(pao)光。

CMP拋光液

【概(gai)要描述(shu)】CMP拋(pao)光(guang)液是以高(gao)純硅粉為原(yuan)料，經特殊工(gong)藝生產(chan)的(de)(de)一(yi)種(zhong)高(gao)純度低金屬(shu)離子型拋(pao)光(guang)產(chan)品(pin)，廣泛用于多種(zhong)材料納米級的(de)(de)高(gao)平坦化拋(pao)光(guang)。

  • 分類：公司新聞
  • 作者：
  • 來源：
  • 發布時間(jian)：2020-06-03
  • 訪問量：0
詳情

CMP拋(pao)(pao)光液是(shi)以高純硅粉為(wei)原料，經特殊(shu)工藝生(sheng)產的一種高純度(du)低(di)金屬離子型(xing)拋(pao)(pao)光產品，廣泛用(yong)于多種材料納米(mi)級的高平坦化拋(pao)(pao)光。

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